六 晶窒化ホウ素の 積合成とグラフェン集積デバイスを実現

グラフェンを始めとする原⼦の厚みしかもたない薄いシートが次世代半導体として⼤きな注⽬を集めているが、⼤⾯積の絶縁性⼆次元材料が必要とされていた。 本研究では六⽅晶窒化ホウ素と呼ばれる絶縁性⼆次元材料を⼤⾯積に合成し、グラフェンのデバイス特性を⼤きく向上 ...関連キーワードはありません