KURAGE online | ビジネス の情報 > 反強磁性体による不揮発性メモリの実用化に前進、東大などが信号増幅に成功 投稿日:2021年4月19日 東京大学、理化学研究所(理研)、科学技術振興機構(JST)の3者は4月15日、次世代の情報処理デバイスの主要材料として注目を集める反強磁性体であるマンガン化合物「Mn3Sn」と、重金属からなる多層薄膜デバイスの膜界面構造の最適化を試み、電気的に ... 3者34月15日15JST3Mn3Sn1マンガン化合物1主要材料1化16反強磁性体1多層薄膜デバイス1情報処理デバイス1東京大学16次世代32注目115理化学研究所15理研10科学技術4膜界面構造1重金属1 続きを確認する