DNPがラピダスにEUVフォトマスク供給、2nm対応で27年量産

大日本印刷（DNP）は2024年3月27日、EUV（極端紫外線）露光技術で製造する2nm世代のロジック半導体向けに、フォトマスク製造プロセスの開発を始めたと発表した。Rapidus（ラピダス、東京・千代田）が新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）から受託したプロジェクト ...関連キーワードはありません